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用于化学机械抛光机的研究和开发的各个方面

点击次数:1755 发布时间:2015-10-24
 用于化学机械抛光机的研究和开发的各个方面
 
化学机械抛光机测试和开发各种不同的微粒,材料,浓度,氧化剂,抑制剂等的抛光液
 
•测试和开发不同的材料,沟槽形状,尺寸,弹性,寿命等
 
•测试和发展抛光垫调节装置来优化抛光垫的损耗率,修整,效率等
 
•开发CMP定位环材料来优化摩擦,磨损,寿命等
 
•测试去除率,重复性缺陷,工艺优化等,研究或开发各种应用的各种材料
 
•半导体方面-铜,Ta,TaN,Al,Si,SiO,Ru,WC,solarcells,PVD,CVD,薄膜等
 
•化合物半导体-砷化镓,铟,磷化物,汞,镉
 
化学机械抛光机应用生物材料-牙,骨,钛,钢铁制品等。
 
•光电材料–LED,蓝宝石,红外窗口抛光激光材料,显微镜头,微光学,铌酸锂,钽酸锂,磷酸氧钛钾等。
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