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美国SVT公司ALD原子层沉积系统

美国SVT公司ALD原子层沉积系统

更新时间:2020-04-24

产品型号:ALD-05

厂商性质:经销商

生产地址:

产品报价:

产品特点:美国SVT公司ALD原子层沉积系统
自1990年来薄膜淀积设备制造商。
拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。
提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制
设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服务
实验室7台应用淀积设备生长出的材料
多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场
在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的供应商。

产品详情

美国SVT公司ALD原子层沉积系统

自1990年来薄膜淀积设备制造商。
拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。
提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制
设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服务
实验室7台应用淀积设备生长出的材料
多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场
在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的供应商。

NorthStar ALD系统介绍

NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。
每台设备可以提供多达8个源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为广泛。
设备的快速舱口盖或装载室(可选件)使样品操作快捷方便。
NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来,还能连接多种测量仪器。
原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。
可以直接升级至超高真空
提供工艺演示以及工艺培训服务
为潜在客户提供免费样品测试。

应用领域

High-K电介质
纳米涂层
MEMS
光子晶体
扩散阻挡层
器件封装
表面改性层

技术参数

为科研客户量身打造优质的原子层沉积系统。
提供4"、6"、8"、12"等多种尺寸的样品平台。
针对客户的需求,提供多种输气设计。
---可控真空度: 1 Torr to UHV
---气道加热
---气体快速进出
---样品尺寸: 4in standard, optional 12in
---基底加热: up to 300 ℃, optional higher temp

主要特点

安全的设计,多样化的配置,测试手段。
精确的控制手段打造*的成膜质量。强大的科研团队铸就雄厚的科技实力。
---气体离子化
---臭氧输送装置
---石英振荡器
---四重质量分光计
---实时温度显示
---椭偏仪
---进样室 

 

 

 

 

 

 

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